同德國、意大利等歐洲工廠建立總代理合作
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在現(xiàn)代光學(xué)科技體系中，材料性能往往直接決定系統(tǒng)的成像能力、能量傳輸效率與長期穩(wěn)定性。氟化鈣（Calcium Fluoride，CaF₂）作為一種跨紫外—可見—紅外波段都具有優(yōu)異透過性能的光學(xué)晶體材料，已經(jīng)成為精密光學(xué)、光刻技術(shù)、高功率激光系統(tǒng)以及紅外探測器的重要基礎(chǔ)材料。
| 波段范圍 | 透過性能表現(xiàn) |
| 130–200 nm（深紫外） | 深紫外波段仍可保持可用透過率，原生晶體雜質(zhì)極低 |
| 200–400 nm（UV） | 透過率可超過 90% |
| 400–700 nm（VIS） | 透過率通�？蛇_(dá) 92–94% |
| 1–6 μm（IR） | 透過率平坦穩(wěn)定，維持高光通量 |
| 參數(shù)類別 | 具體規(guī)格 |
| 圓形晶體尺寸 | 最大直徑可達(dá) Ø 440 mm；常規(guī)供應(yīng)：Ø 20–200 mm |
| 平板厚度 | 從 1 mm 到 60 mm |
| 可定制形狀 | 平板、窗口、透鏡坯件、準(zhǔn)球面、棱鏡、柱體等 |
| 密度 | 3.18 g/cm³ |
| 熔點(diǎn) | 1418 °C |
| 熱膨脹系數(shù)（@20°C） | 18.85 ×10⁻⁶ /K |
| 楊氏模量 | 75.8 GPa |
| 泊松比 | 0.26 |
| 熱導(dǎo)率（25°C） | 9.71 W/mK |
| 維氏硬度 | 158 HV |
核心應(yīng)用包括半導(dǎo)體光刻（193 nm、248 nm）、DUV 激光系統(tǒng)、UV 光刻機(jī)、紫外顯微鏡等。CaF₂ 的低吸收與低色散能顯著提升光刻系統(tǒng)的成像質(zhì)量，是深紫外光學(xué)領(lǐng)域的核心材料。
適配 355 nm / 532 nm 納秒激光、1064 nm 工業(yè)激光等場景，可作為高能激光窗口與透鏡，憑借優(yōu)異的光學(xué)穩(wěn)定性和耐熱性能，保障高功率激光傳輸?shù)男逝c安全性。
廣泛應(yīng)用于光譜儀窗口、精密成像系統(tǒng)、環(huán)境監(jiān)測儀器、天文觀測光學(xué)元件等，高透過率與高均勻性確�？蒲袛�(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和成像系統(tǒng)的清晰畫質(zhì)。
適用于紅外傳感器、熱像儀鏡頭、中紅外窗口、紅外濾光片、激光探測器封裝窗口等，在中紅外波段的穩(wěn)定透過性能使其成為紅外探測技術(shù)的關(guān)鍵材料。
| 特點(diǎn)一 | 特點(diǎn)二 | 特點(diǎn)三 | 特點(diǎn)四 |
| 寬透射波段（覆蓋 DUV–IR） | 大尺寸晶體能力，適合高級(jí)光學(xué)制造 | 內(nèi)部缺陷控制能力強(qiáng)，均勻性高 | 可定制多形狀、多規(guī)格加工件 |
HELLMA 氟化鈣（CaF₂）晶體材料憑借跨深紫外至紅外的寬波段高透過性能，成為高端光學(xué)系統(tǒng)的核心基礎(chǔ)材料。其大尺寸制備能力、低缺陷率、高均勻性等優(yōu)勢，滿足半導(dǎo)體光刻、高功率激光、紅外探測等高端領(lǐng)域的嚴(yán)苛要求。多樣化的定制加工選項(xiàng)與穩(wěn)定的物理化學(xué)性能，使其在精密光學(xué)制造、科研儀器、工業(yè)檢測等多個(gè)領(lǐng)域具備不可替代的價(jià)值，為光學(xué)技術(shù)的創(chuàng)新與應(yīng)用提供可靠支撐。
